Ausdruck vom 19.02.2017

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Patent- und Gebrauchsmusterrecherche im Internet


Bevor Sie mit der Recherche nach Patenten und Gebrauchsmustern beginnen, sollten Sie sich über die Vorteile aber auch über die Risiken einer eigenhändigen Internetrecherche bewußt sein.

Ein klarer Vorteil ist natürlich der einfache und schnelle Zugang für jedermann und eine relativ hohe Kostensicherheit.

Die Internetangebote werden von Einsteigern oft falsch eingeschätzt. Meist fehlt es an Grundlagen der Recherchetechnik, an Informationen zum Datenumfang und einer kritischen Wertung des Ergebnisses. Nähere Informationen über die Inhalte sind meist auf separaten Seiten und in langen Textpassagen zu finden. In der Annahme der Zuverlässigkeit „amtlicher Daten“ geht man leicht von einer hohen Qualität jeder möglichen Recherche aus. Dies trifft allerdings nicht zu. Auch stellen viele im Internet recherchierten Bestände nur einen Bruchteil des verfügbaren Materials dar.

Eine erste Hürde, die Sie überwinden müssen, ist, sich in den verschiedenen Angeboten zurechtzufinden. Beispiele für kostenlose Angebote sind die Datenbanken → DEPATISnet des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), → Espacenet des Europäischen Patentamts (EPA) und → Patentscope von der Weltorganisation für Geistiges Eigentum (WIPO). Diese unterscheiden sich im Datenbestand zum Teil erheblich! Hinweise zu den enthaltenen Datenbeständen finden sich auf den Seiten der Anbieter.

Eines der wichtigsten Hilfsmittel bei einer Recherche zum Stand der Technik ist die Internationale Patentklassifikation. Patente und Gebrauchsmuster werden nach Eingang beim Patentamt vom jeweiligen Prüfer einem Sachgebiet zugeordnet. Die Einteilung in Sachgebiete entspricht der → Internationalen Patentklassifikation (IPC). Jede einzelne Patentklasse/-gruppe betrifft also ein bestimmtes abgegrenztes technisches Gebiet; dadurch ist eine gezielte und effiziente Recherche möglich.

Weitere Hinweise zur Recherche finden Sie auch in dem Aufsatz → Keine Angst vor Patentrecherchen! von Marthe Le Blanc, der auch in der Broschüre → Schutz von Erfindungen und Design enthalten ist.